Semiconductor Device and Failure Analysis

Using Photon Emission Microscopy
1. Auflage 2001
ISBN: 978-0-471-49240-5
Verlag: Wiley

Buch, Englisch, 288 Seiten, Format (B × H): 183 mm x 260 mm, Gewicht: 743 g

Integrierte Schaltkreise werden immer komplexer - deshalb wird es zunehmend schwieriger, Fehler schnell und treffsicher aufzuspüren. Die Photonenemissionsmikroskopie (PEM) ist eine Analysetechnik auf physikalischer Grundlage, die sich als Fehlererkennungsmethode bewährt hat. Dieser Band erläutert alle Aspekte dieser Methode, von der instrumentellen Ausrüstung über spezifische Details der Mikroskope bis hin zu Merkmalen der Photonenemission unter verschiedenen Bedingungen. (11/00)

Autoren/Hrsg.

Chim, Wai Kin

Fachgebiete

• Naturwissenschaften Physik Elektromagnetismus Halbleiter- und Supraleiterphysik
• Technische Wissenschaften Elektronik | Nachrichtentechnik Elektronik Halb- und Supraleitertechnologie

Inhaltsverzeichnis

Preface.

Introduction.

Theory of Light Emission in Semiconductors.

Instrumentation Aspects of the Photon Emission Microscope.

Backside Photon Emission Microscopy.

Spectroscopic Photon Emission Microscopy.

Photon Emission from Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors under Hot-Carrier Stressing.

Photon Emission from Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors under High-Field Impulse Stressing.

Oxide Degradation and Photon Emission from Metal-Oxide Semiconductor Capacitor Structures.

Index.

Über Autor(innen)

Wai Kin Chim is the author of Semiconductor Device and Failure Analysis: Using Photon Emission Microscopy, published by Wiley.