Liebe Besucherinnen und Besucher,
aufgrund unseres Sommerfestes sind wir am 03. September 2026 bis 14 Uhr erreichbar. Am 04. September 2026 sind wir wieder wie gewohnt für Sie da. Vielen Dank für Ihr Verständnis.
Ihr Team von Sack Fachmedien
Buch, Englisch, 328 Seiten, Format (B × H): 152 mm x 229 mm, Gewicht: 626 g
Buch, Englisch, 328 Seiten, Format (B × H): 152 mm x 229 mm, Gewicht: 626 g
Reihe: Thin Films and Nanostructures
ISBN: 978-0-12-533018-3
Verlag: ACADEMIC PR INC
This latest volume of the well-known Physics of Thin Films Series includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalancedmagnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.
Fachgebiete
- Naturwissenschaften Physik Thermodynamik Plasmaphysik
- Naturwissenschaften Physik Quantenphysik Teilchenphysik
- Naturwissenschaften Physik Quantenphysik Hochenergiephysik
- Naturwissenschaften Physik Thermodynamik Festkörperphysik, Kondensierte Materie
- Naturwissenschaften Physik Thermodynamik Physik der Zustandsübergänge
- Naturwissenschaften Physik Thermodynamik Oberflächen- und Grenzflächenphysik, Dünne Schichten
- Naturwissenschaften Chemie Anorganische Chemie Festkörperchemie
- Naturwissenschaften Physik Quantenphysik Radioaktivität
Weitere Infos & Material
Design of High- Density Plasma Sources for Materials Processing M.A. Lieberman and R.A. Gottscho Electron Cyclotron Resonance Plasma Sources and Their Use in Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition of Thin Films O.A. Popov Unbalanced Magnetron Sputtering S.L. Rohde The Formation of Particles in Thin-Film Processing Plasmas Steinbruchel
