Gao | Surface Metrology for Micro- and Nanofabrication | Buch | 978-0-12-817850-8 | sack.de

Buch, Englisch, 448 Seiten, Format (B × H): 191 mm x 235 mm, Gewicht: 1040 g

Reihe: Micro & Nano Technologies

Gao

Surface Metrology for Micro- and Nanofabrication


Erscheinungsjahr 2020
ISBN: 978-0-12-817850-8
Verlag: Elsevier Science Publishing Co Inc

Buch, Englisch, 448 Seiten, Format (B × H): 191 mm x 235 mm, Gewicht: 1040 g

Reihe: Micro & Nano Technologies

ISBN: 978-0-12-817850-8
Verlag: Elsevier Science Publishing Co Inc


Surface Metrology for Micro- and Nanofabrication presents state-of-the-art measurement technologies for surface metrology in fabrication of micro- and nanodevices or components. This includes the newest general-purpose scanning probe microscopes, and both contact and non-contact surface profilers. In addition, the book outlines characterization and calibration techniques, as well as in-situ, on-machine, and in-process measurements for micro- and nanofabrication.

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Zielgruppe


<p>Academics and R&D industry researchers in the fields of materials science and engineering.</p>


Autoren/Hrsg.


Weitere Infos & Material


1. Noncontact Scanning Electrostatic Force Microscope2. Quartz Tuning Fork Atomic Force Microscope3. Micropipette Ball Probing System4. Low-Force Elastic Beam Surface Profiler5. Linear-Scan Micro Roundness Measuring Machine6. Micro-Gear Measuring Machine7. On-Machine Length Gauge Surface Profiler8. On-Machine Air-Bearing Surface Profiler9. On-Machine Atomic Force Microscope10. On-Machine Roll Profiler11. In-Process Fast Tool Servo Profiler12. Self-Calibration of Prove Tip Radius and Cutting Edge Sharpness


Gao, Wei
Prof. Wei Gao is the Chair of the Precision Nanometrology Laboratory and Director of the Research Center for Precision Nanosystems at the Department of Fine Mechanics in the Graduate School of Engineering, Tohoku University, Japan. His research focuses on precision engineering, precision metrology, micro/nano-nanometrology, optical sensors, surface metrology, on-machine and in-process measurement, and motion measurement.



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