Pan / Singh | Nanolithography and Implications on Circuit Design | Buch | 978-1-4419-6156-3 | www.sack.de

Buch, Englisch, 400 Seiten, Format (B × H): 155 mm x 235 mm

Pan / Singh

Nanolithography and Implications on Circuit Design


1. Auflage 2012
ISBN: 978-1-4419-6156-3
Verlag: Springer

Buch, Englisch, 400 Seiten, Format (B × H): 155 mm x 235 mm

ISBN: 978-1-4419-6156-3
Verlag: Springer

This book provides a comprehensive and updated "state-of-the-art" compilation on nanolithography and implications on future nanometer IC designs. Its scope in a bottom-up manner, includes the underlying equipment and process issues for nanolithography, the computational lithography aspects, and the key design and CAD issues and possible solutions. The subjects covered include: introduction of nanolithography process and trends; computational lithography (including lithography simulations, OPC, inverse lithography, pixilated mask, source mask optimization, etc.); lithography-aware analysis & design; and future lithography technologies and EDA impact.

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Zielgruppe

Professional/practitioner

Autoren/Hrsg.

Pan, David Z.
Singh, Vivek

Fachgebiete

Weitere Infos & Material

Optical Lithography Process and Trends.- Computational Lithography.- Litho-aware Analysis and Design.- Future Lithography Technologies and EDA Impact.

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