Liebe Besucherinnen und Besucher,
aufgrund unseres Sommerfestes sind wir am 03. September 2026 bis 14 Uhr erreichbar. Am 04. September 2026 sind wir wieder wie gewohnt für Sie da. Vielen Dank für Ihr Verständnis.
Ihr Team von Sack Fachmedien
Sonstiges, Englisch, Band Volume 21, 202 Seiten, Format (B × H): 125 mm x 142 mm, Gewicht: 200 g
Reihe: Diffusion Foundations
Sonstiges, Englisch, Band Volume 21, 202 Seiten, Format (B × H): 125 mm x 142 mm, Gewicht: 200 g
Reihe: Diffusion Foundations
ISBN: 978-3-0357-2505-6
Verlag: Trans Tech Publications
Silicide intermetallics are widely used in various applications such as microelectronics, structural and coating industries. Some aspects of the diffusion-controlled growth and oxidation of metal-silicides are presented in this volume of the journal.
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Mechanisms of Silicide Formation by Reactive Diffusion in Thin FilmsDiffusion Rates of Components in Metal-Silicides Depending on Atomic Number of Refractory Metal ComponentDiffusion-Limited Reactions of Non-Oxide Ceramics with Transition MetalsOxidation Behavior of SilicidesPeriodic Layer Formation during Multiphase Diffusion in Silicide Systems




