Buch, Englisch, Band 614, 590 Seiten, Format (B × H): 156 mm x 235 mm, Gewicht: 885 g
Reihe: ACS Symposium Series
Polymers for Advanced Imaging and Packaging
Buch, Englisch, Band 614, 590 Seiten, Format (B × H): 156 mm x 235 mm, Gewicht: 885 g
Reihe: ACS Symposium Series
ISBN: 978-0-8412-3332-4
Verlag: American Chemical Society
Provides an up-to-date assessment of chemically amplified resist materials chemistry and process considerations. Reports novel chemistry for single layer 193nm lithographic applications. Discusses new approaches to silicon-containing resists and multilevel processes. Explores the design of low-dielectric polymer materials for microelectronic applications.
Autoren/Hrsg.
Fachgebiete
- Technische Wissenschaften Verfahrenstechnik | Chemieingenieurwesen | Biotechnologie Technologie der Kunststoffe und Polymere
- Technische Wissenschaften Elektronik | Nachrichtentechnik Elektronik Halb- und Supraleitertechnologie
- Technische Wissenschaften Verfahrenstechnik | Chemieingenieurwesen | Biotechnologie Drucktechnik und Reprografische Technik




