Introduction to Microlithography

2. Auflage 1994
ISBN: 978-0-8412-2848-1
Verlag: American Chemical Society

Buch, Englisch, 540 Seiten, Format (B × H): 158 mm x 236 mm, Gewicht: 888 g

Reihe: ACS Professional Reference Book

Updated and expanded! Reviews the theory, materials, and processes that are used in the lithographic process. Opens with a brief historical introduction to the advances in microlithography. Discusses four major topics: the physics of the lithographic process, organic resist materials, resist processing, and plasma etching. Designed as a tutorial for researchers with no experience in the field, as well as those experienced in microlithography. Will also prove invaluable to those already involved in microlithography. Includes numerous references for more detailed reading on specific aspects of microlithography.

Autoren/Hrsg.

Thompson, Larry F.

Willson, C. Grant

Bowden, Murrae J.

Fachgebiete

• Naturwissenschaften Physik Physik Allgemein Theoretische Physik, Mathematische Physik, Computerphysik
• Geisteswissenschaften Kunst Kunst, allgemein
• Naturwissenschaften Physik Physik Allgemein Experimentalphysik
• Technische Wissenschaften Elektronik | Nachrichtentechnik Elektronik Bauelemente, Schaltkreise
• Wirtschaftswissenschaften Betriebswirtschaft Bereichsspezifisches Management Produktionsmanagement, Qualitätskontrolle
• Naturwissenschaften Physik Physik Allgemein Geschichte der Physik
• Geisteswissenschaften Kunst Kunstformen, Kunsthandwerk Malerei: Gemälde