Ion Sources

1999
ISBN: 978-3-540-65747-7
Verlag: Springer Berlin Heidelberg

Buch, Englisch, 476 Seiten, Format (B × H): 160 mm x 241 mm, Gewicht: 1930 g

Ion implantation has become a basic technology in device manufacturing. For efficient use of this accelerator-based technique the choice of appropriate ion sources is important. This book deals with the design and operation of ion sources. Additionally the physics of ion formation of the various elements with different charge states and charge neutralization are discussed. Ion selection and beam diagnostics are part of the book too. The presentation of the necessary equations and diagrams for the various parameters makes this book useful as a handbook for ion sources.

Zielgruppe

Research

Autoren/Hrsg.

Zhang, Huashun

Zhang, Jianrong

Fachgebiete

• Technische Wissenschaften Maschinenbau | Werkstoffkunde Technische Mechanik | Werkstoffkunde Werkstoffkunde, Materialwissenschaft: Forschungsmethoden
• Technische Wissenschaften Elektronik | Nachrichtentechnik Elektronik Halb- und Supraleitertechnologie
• Naturwissenschaften Physik Thermodynamik Festkörperphysik, Kondensierte Materie
• Naturwissenschaften Physik Physik Allgemein Experimentalphysik
• Naturwissenschaften Physik Thermodynamik Oberflächen- und Grenzflächenphysik, Dünne Schichten
• Technische Wissenschaften Elektronik | Nachrichtentechnik Elektronik Elektronische Baugruppen, Elektronische Materialien
• Naturwissenschaften Physik Elektromagnetismus Halbleiter- und Supraleiterphysik
• Technische Wissenschaften Technik Allgemein Physik, Chemie für Ingenieure

Inhaltsverzeichnis

Introduction.- Gas Discharge Fundamentals.- Extraction System for Ion Sources.- Positive Ion Sources.- Giant Ion Sources.- Multiply Charged Ion Sources.- Mass and Energy Spectra of Ion Sources.- Negative Ion Sources.- Self-Neutralization of Beam Space Charge.- Beam Diagnostics for Ion Sources.