Adam 1965 Transactions of the Third International Vacuum Congress

Sessions 1-4
1. Auflage 2013
ISBN: 978-1-4831-6493-9
Verlag: Elsevier Science & Techn.
Format: PDF
Kopierschutz: 1 - PDF Watermark

E-Book, Englisch, 304 Seiten

1965 Transactions of the Third International Vacuum Congress, Volume 2, Part I documents the proceedings on the Third International Vacuum Congress held in Stuttgart, Germany on June 28-July 2, 1965. This compilation is divided into four sessions. Session 1 focuses on evaporation and thin films, while Session 2 deals with the flow of gases. The components and materials of orthodox vacuum pumps are covered in Session 3. The last session concentrates on pressure measurement and leak detection. The topics discussed include developments in the vacuum deposition of electronic film circuits; bulk sublimation of titanium; transmission probability determination with directed mass motion and with mean free path considerations; measuring the density and direction of gas molecular flow using an ionization detector; and porous metal isolation traps and cryosorbents in vacuum technique. The factors influencing the performance and design of water-cooled condensers; electrode dimensions of the Bayard-Alpert ionization gauge and its sensitivity; and analysis of the changes in Pirani gauge characteristics are also deliberated in this text. This volume is beneficial to students and researchers conducting work on vacuum, including other related subjects such as etymology, electromagnetism, and quantum mechanics.

Autoren/Hrsg.

Adam, H.

Inhaltsverzeichnis

1;Front Cover;1
2;1965 Transactions of the third International Vacuum Congress;4
3;Copyright Page;5
4;Table of Contents;8
5;PART I;14
5.1;SESSION 1: Evaporation and Thin Films;16
5.1.1;Chapter 1. Recent developments in the vacuum deposition of electronic film circuits;18
5.1.1.1;Introduction;19
5.1.1.2;Film component performance;19
5.1.1.3;Control of deposition parameters;19
5.1.1.4;Evaporation sources and pattern generation;21
5.1.1.5;Critical film properties;24
5.1.1.6;References;28
5.1.2;Chapter 2. Considerations sur l'adhésion des couches minces métalliques obtenues par evaporation sous vide moléculaire;30
5.1.2.1;Introduction;30
5.1.2.2;Définition et mesuration de l'adhésion;30
5.1.2.3;Procédé expérimental;31
5.1.2.4;Essais d'adhésion;32
5.1.3;Chapter 3. Analyses of gases evolved during evaporation;34
5.1.3.1;Conclusions;36
5.1.3.2;Acknowledgements;37
5.1.3.3;Reference;37
5.1.4;Chapter 4. Fortschritte in der Herstellung von Oxydschichten fiir optische und elektrische Zwecke;38
5.1.4.1;Referenz;42
5.1.5;Chapter 5. Zur Oxydation von aufgedampften Chrom-Schichten in einem Sauerstoff-MolekUlstrahl;44
5.1.5.1;1. Einleitung;44
5.1.5.2;2. Versuchsanordnung;44
5.1.5.3;3. Versuche;45
5.1.5.4;4. Schlussbemerkung;48
5.1.5.5;Literatur;48
5.1.6;Chapter 6. Bulk sublimation of titanium;50
5.1.6.1;Introduction;51
5.1.6.2;Bulk sublimators and their application;51
5.1.6.3;References;54
5.1.6.4;Bibliography;54
5.1.7;Chapter 7. Widerstandsmessungen zum Einbau von Vakuum Restgasen beim Aufdampfen dlinner Gold- und Nickelschichten;56
5.1.7.1;Diskussion;59
5.1.7.2;Literatur;59
5.1.8;Chapter 8. The effect of surface impurities upon the resistance of thin specular gold films*;60
5.1.9;Chapter 9. Properties of evaporated thin films of Si2O3;62
5.1.9.1;Introduction;63
5.1.9.2;Experimental techniques;63
5.1.9.3;Experimental results;64
5.1.9.4;Conclusion;68
5.1.9.5;Acknowledgements;68
5.1.9.6;Discussion;69
5.1.9.7;References;69
5.1.10;Chapter 10. Préparation de photorésistances au CdS par évaporation sous vide;70
5.1.11;Chapter 11. The dependence of the electrical characteristics of Ni-Cr thin films on evaporation parameters;72
5.1.11.1;Introduction;73
5.1.11.2;Sample preparation;73
5.1.11.3;Evaporation procedure;74
5.1.11.4;Results;75
5.1.11.5;Summary and analysis of data;81
5.1.11.6;Additional experiments;81
5.1.11.7;Physical model;82
5.1.11.8;References;83
5.1.12;Chapter 12. Ölrückströmung aus mechanischen Pumpen ais Verschmutzungsursache im Vakuum;84
5.2;SESSION 2: Flow of Gases;86
5.2.1;Chapter 13. A study of thermal transpiration using ultra-high vacuum techniques;88
5.2.1.1;Introduction;89
5.2.1.2;Experimental;89
5.2.1.3;Results and discussion;90
5.2.1.4;Conclusions;91
5.2.1.5;Acknowledgements;91
5.2.1.6;References;91
5.2.2;Chapter 14. Gasströmung im Kontinuumgebiet bei beliebigen Druckunterschieden;92
5.2.2.1;1. Einleitung;92
5.2.2.2;2. Problemstellung und grundsätzlicher Versuchsaufbau;93
5.2.2.3;3. Adiabatische Strömung;93
5.2.2.4;4. Die isotherme Reibungsströmung;95
5.2.2.5;5. Definition des Beg riffes "langes Rohr";96
5.2.2.6;6. Messergebnisse;96
5.2.2.7;7. Danksagung;97
5.2.2.8;Referenzen;97
5.2.3;Chapter 15. Transmission probability determination with directed mass motion and with mean free path considerations;98
5.2.3.1;I. Introduction;99
5.2.3.2;II. General considerations of transmission probabilities;99
5.2.3.3;III. Relative mass motion considerations;103
5.2.3.4;IV. Concluding remarks;107
5.2.3.5;Discussion;107
5.2.3.6;References;108
5.2.4;Chapter 16. Monte Carlo Calculations of Molecular Gas Flow;110
5.2.4.1;1. Introduction;110
5.2.4.2;2. Description of programme;111
5.2.4.3;Conclusions;115
5.2.4.4;Acknowledgements;115
5.2.4.5;References;116
5.2.5;Chapter 17. A study of free molecular flow through various length cylindrical nozzles;118
5.2.5.1;I. Introduction;119
5.2.5.2;II. General equipment;119
5.2.5.3;III. Test and test results;121
5.2.5.4;IV. Conclusion;126
5.2.5.5;Acknowledgements;127
5.2.5.6;References;127
5.2.6;Chapter 18. Étude expérimentale des valeurs de conductance au moyen d'un manomètre différentiel interférométrique;128
5.2.6.1;I. Introduction;128
5.2.6.2;II. Définition de la conductance variable;128
5.2.6.3;III. Le manomètre différentiel interférométrique;128
5.2.6.4;IV. Résultats expérimentaux;129
5.2.6.5;V. Conclusion;131
5.2.6.6;Bibliographie;132
5.2.7;Chapter 19. Hochfrequenz-Massenspektrometer ais gasanalytische Strömungsmesser;134
5.2.7.1;1. Einleitung;135
5.2.7.2;2. Die physikalischen Grundlagen der Messmethode;136
5.2.7.3;3. Dimensionsierung der Messanordnung;138
5.2.7.4;Literaturverzeichnis;142
5.2.8;Chapter 20. Untersuchungen über die Geschwindigkeitsverteilung im Bereich zwischen molekularer und gasdynamischer Effusion;144
5.2.8.1;Diskussion;147
5.2.8.2;Referenzen;147
5.2.9;Chapter 21. Untersuchungen über das Streuverhalten im Bereich zwischen molekularer und gasdynamischer Effusion*;148
5.2.9.1;I. Überblick;149
5.2.9.2;II. Untersuchungen zum Streuverhalten;150
5.2.9.3;III. Ergebnisse;152
5.2.9.4;Diskussion;153
5.2.9.5;Literatar;153
5.2.10;Chapter 22. Measuring the density and direction of gas molecular flow using an ionization detector;154
5.2.10.1;1. Introduction;155
5.2.10.2;2. Theoretical analysis of gas streaming;156
5.2.10.3;3. Experimental apparatus;157
5.2.10.4;4. Experimental results;158
5.2.10.5;Acknowledgements;163
5.2.10.6;References;163
5.3;SESSION 3: Components and Materials: Orthodox Vacuum Pumps;164
5.3.1;Chapter 23. Measurement of the rate of evaporation of pump oils using a crystal vibrator;166
5.3.1.1;1. Introduction;167
5.3.1.2;2. Apparatus and procedure;167
5.3.1.3;3. Analysis of evaporation techniques;168
5.3.1.4;4. Results;169
5.3.1.5;References;173
5.3.2;Chapter 24. Gasabgabe von Kupfer bei der Erhitzung im Ultrahochvakuum;174
5.3.2.1;1. Einleitung;174
5.3.2.2;2. Messmethode;175
5.3.2.3;3. Messergebnisse;175
5.3.2.4;4. Bestimmung kleinster Gasgehalte im Kupfer;177
5.3.2.5;Diskussion;178
5.3.2.6;Schriftum;178
5.3.3;Chapter 25. Desorptionsspektrometrische Untersuchungen an Elektronenröhren-Einbaumaterialien;180
5.3.3.1;1. Einleitung und Messprinzip;180
5.3.3.2;2. Messanordnung und Messmethode;181
5.3.3.3;3. Messergebnisse;182
5.3.3.4;4. Schlussbemerkung;184
5.3.3.5;References;184
5.3.4;Chapter 26. Vacuum brazing as a production technique for vacuum equipment;186
5.3.4.1;Acknowledgements;191
5.3.4.2;Discussion;191
5.3.5;Chapter 27. Sealing factors, their measurement and use in the design of vacuum gasket seals;194
5.3.5.1;Introduction;194
5.3.5.2;Mechanism of sealing process;194
5.3.5.3;Model of sealing process;195
5.3.5.4;Idealized sealing process;196
5.3.5.5;Idealized and actual conductance of seals;198
5.3.5.6;Discussion;201
5.3.5.7;Acknowledgements;201
5.3.5.8;References;201
5.3.6;Chapter 28. Porous metal isolation traps and cryosorbents in vacuum technique*;202
5.3.6.1;Introduction;202
5.3.6.2;Experiments with porous metal diaphragm traps;203
5.3.6.3;Conclusion;205
5.3.6.4;Acknowledgements;205
5.3.6.5;References;205
5.3.7;Chapter 29. Operating characteristics of a fast gas valve;206
5.3.7.1;Introduction;206
5.3.7.2;Fast valve;207
5.3.7.3;Drive unit;207
5.3.7.4;Valve characteristics;208
5.3.7.5;Density distribution in the vacuum system;209
5.3.7.6;Acknowledgements;210
5.3.7.7;References;210
5.3.8;Chapter 30. Ausheizbares Metallventil mit Kupferdichtung;212
5.3.8.1;Bibliographie;213
5.3.9;Chapter 31. Ölrückströmung aus mechanischen Pumpen ais Verschmutzungsursache im Vakuum;214
5.3.9.1;Discussion;218
5.3.9.2;References;218
5.3.10;Chapter 32. Observations at measurements of ultimate pressure of rotary pumps according to AVS Tentative Standard;220
5.3.11;Chapter 33. Factors influencing the performance and design of water-cooled condensers;224
5.3.11.1;1. Introduction;224
5.3.11.2;2. Apparatus;225
5.3.11.3;3. Theory and discussion;225
5.3.11.4;4. Results;226
5.3.11.5;5. Conclusions;231
5.3.11.6;References;233
5.3.12;Chapter 34. Die Vermeidung systematischer Fehler bei der Messung des Saugvermögens von Hochvakuumpumpen;234
5.3.12.1;Einleitung;234
5.3.12.2;Definition des Saugvermögens;234
5.3.12.3;Die Verwendung kleiner Testdome bei der Ausführung der Messungen;235
5.3.12.4;Die Simulierung des grossen Testdomes;235
5.3.12.5;Literaturverzeichnis;237
5.3.13;Chapter 35. Performance characteristics of large diffusion pumps as functions of pump fluid and heater input;238
5.3.13.1;Introduction;239
5.3.13.2;Design;239
5.3.13.3;Performance characteristics;239
5.3.13.4;Thermodynamic analysis;241
5.3.13.5;Conclusion;243
5.4;SESSION 4: Pressure Measurement and Leak Detection;244
5.4.1;Chapter 36. Versuche zur elektrischen Steuerung der Gasaufzehrung in Glühkathoden-lonisationsmanometern;246
5.4.1.1;1. Einleitung;247
5.4.1.2;2. Die experimentelle Anordnung;247
5.4.1.3;3. lonisationsmanometer mit einem Abschirmgitter;248
5.4.1.4;4. lonisationsmanometer mit zwei Abschirmgittern;249
5.4.1.5;5. lonisationsmanometer mit leitender Glaswand;251
5.4.1.6;6. Schlussfolgerungen;251
5.4.1.7;Literatur;252
5.4.2;Chapter 37. Electrode dimensions of the Bayard-Alpert ionization gauge and its sensitivity;254
5.4.2.1;1. Introduction;254
5.4.2.2;2. Sensitivity versus collector wire diameter;255
5.4.2.3;3. Sensitivity versus collector length;255
5.4.2.4;4. Sensitivity versus collector position in anode cross-section;256
5.4.2.5;5. Sensitivity versus cathode length and position;256
5.4.2.6;6. Sensitivity versus anode diameter;256
5.4.2.7;7. Sensitivity gain dueto end-coverings;257
5.4.2.8;8. Sensitivity gain due to electron oscillations.;257
5.4.2.9;References;257
5.4.3;Chapter 38. Behaviour of different ionization gauges at very low pressures;258
5.4.3.1;Introduction;258
5.4.3.2;Description of the system;259
5.4.3.3;Ion current as a function of grid potential;259
5.4.3.4;Variation of the ion current when the electron emission was changed;259
5.4.3.5;Variation of the collection efficiency in the (MG) gauge;260
5.4.3.6;Observations on gauges after outgassing;261
5.4.3.7;Summary;261
5.4.3.8;Acknowledgements;262
5.4.3.9;References;262
5.4.4;Chapter 39. The effect of localized gas densities on vacuum ionization gauges*;264
5.4.4.1;Introduction;265
5.4.4.2;Experimental programme;265
5.4.4.3;Findings;266
5.4.4.4;Discussion;266
5.4.4.5;Uncertainties;266
5.4.4.6;Conclusions;267
5.4.4.7;References;267
5.4.5;Chapter 40. Un micromanomètre à haute sensibilité;268
5.4.5.1;1. Introduction;268
5.4.5.2;2. Principe de fonctionnement du micromanomètre;269
5.4.5.3;3. Description de l'appareil;270
5.4.5.4;4. Méthode de mesure et précision;271
5.4.5.5;5. Conclusion;271
5.4.5.6;Références;271
5.4.6;Chapter 41. Méthode originale d'étalonnage de jauges à ionisation;272
5.4.6.1;1. Introduction;272
5.4.6.2;2. Étude de la linéarité;272
5.4.6.3;3. Étude de la sensibilité;273
5.4.6.4;4. Détermination de la sensibilité d'une jauge Bayard- Alpert;274
5.4.6.5;5. Application à l'étude de la sensibilité d'un manomètre de Penning à réamorçage;274
5.4.6.6;6. Conclusion;275
5.4.6.7;Bibliographie;275
5.4.7;Chapter 42. Evaluation of uncertainties in vacuum gauge calibration;276
5.4.7.1;Description of the facility;277
5.4.7.2;Propagation of uncertainties;277
5.4.7.3;Sources of uncertainty;277
5.4.7.4;Experimental results;278
5.4.7.5;Conclusions;279
5.4.7.6;Reference;279
5.4.8;Chapter 43. Massenspektrometer mit hoher Partialdruckempfindlichkeit für Lecksucher;280
5.4.8.1;Reference;283
5.4.9;Chapter 44. Les contrôles d'étanchéïté sur grands ensembles;284
5.4.9.1;I. Problèmes particuliers aux contrôles d'étanchéïté sur circuits montes;285
5.4.9.2;II. Préparation d'une campagne de test;286
5.4.9.3;III. Déroulement d'une campagne de test;286
5.4.9.4;IV. Matériel utilisé;289
5.4.9.5;V. Personnel nécessaire;291
5.4.9.6;VI. Conclusion;291
5.4.10;Chapter 45. Évolution du problème de l'unité de pression en science et technique du vide;292
5.4.10.1;1. Le problème de l'unité de pression;293
5.4.10.2;2. Les systèmes cohérents d'unités;293
5.4.10.3;3. Les unités de pression employées en science et technique du vide;295
5.4.10.4;4. Unités de pression proposées;296
5.4.10.5;5. Propositions relatives à la représentation logarithmique l'échelle des pressions;297
5.4.10.6;6. Evolution du problème de l'unité de pression en science ettechnique du vide depuis 1945;297
5.4.10.7;Bibliographie;298
5.4.11;Chapter 46. An analysis of the changes in Pirani gauge characteristics;300
5.4.11.1;References;303
6;CONTENTS OF VOLUME 1;304