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Technische Wissenschaften
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Ho / Hu / Gall Electromigration in Metals
Fundamentals to Nano-InterconnectsErscheinungsjahr 2022Verlag: Cambridge University PressISBN: 978-1-107-03238-5Medium: Buch97,50 € (inkl. MwSt.)
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Gall / Grill / Lacopi Materials, Processes and Reliability for Advanced Interconnects for Micro - and Nonelectronics 2009
Erscheinungsjahr 2009Verlag: Cambridge University PressISBN: 978-1-60511-129-2Medium: Buch122,40 € (inkl. MwSt.)
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