Yu / Pan Design for Manufacturability with Advanced Lithography
1. Auflage 2016
ISBN: 978-3-319-20385-0
Verlag: Springer International Publishing
Format: PDF
Kopierschutz: 1 - PDF Watermark
E-Book, Englisch, 164 Seiten
Reihe: Engineering
ISBN: 978-3-319-20385-0
Verlag: Springer International Publishing
Format: PDF
Kopierschutz: 1 - PDF Watermark
Zielgruppe
Research
Autoren/Hrsg.
Weitere Infos & Material
Introduction.- Layout Decomposition for Triple Patterning.- Layout Decomposition for Other Patterning Techniques.- Standard Cell Compliance and Placement Co-Optimization.- Design for Manufacturability with E-Beam Lithography.- Conclusions and Future Works.-




