Buch, Englisch, 255 Seiten, Previously published in hardcover, Format (B × H): 155 mm x 235 mm, Gewicht: 441 g
Buch, Englisch, 255 Seiten, Previously published in hardcover, Format (B × H): 155 mm x 235 mm, Gewicht: 441 g
Reihe: Integrated Circuits and Systems
ISBN: 978-90-481-7303-7
Verlag: Springer Netherlands
This book walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process. It covers all CAD/CAE aspects of a SOC design flow and addresses a new topic (DFM/DFY) critical at 90 nm and beyond. This book is a must read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development.
Zielgruppe
Research
Autoren/Hrsg.
Fachgebiete
- Technische Wissenschaften Technik Allgemein Konstruktionslehre und -technik
- Mathematik | Informatik EDV | Informatik Angewandte Informatik Computeranwendungen in Wissenschaft & Technologie
- Mathematik | Informatik EDV | Informatik Professionelle Anwendung Computer-Aided Design (CAD)
- Geisteswissenschaften Design Produktdesign, Industriedesign
- Technische Wissenschaften Elektronik | Nachrichtentechnik Elektronik Mikroprozessoren
- Technische Wissenschaften Elektronik | Nachrichtentechnik Elektronik Bauelemente, Schaltkreise
- Technische Wissenschaften Technik Allgemein Computeranwendungen in der Technik
Weitere Infos & Material
Random Defects.- Systematic Yield - Lithography.- Systematic Yield - Chemical Mechanical Polishing (CMP).- Variability & Parametric Yield.- Design for Yield.- Yield Prediction.- Conclusions.
