Buch, Deutsch, Band 3, 101 Seiten, Format (B × H): 148 mm x 210 mm
Buch, Deutsch, Band 3, 101 Seiten, Format (B × H): 148 mm x 210 mm
ISBN: 978-3-8396-2108-0
Verlag: Fraunhofer Verlag
Die Silizium-Schichten wurden mittels HWCVD als Einzelschichten hergestellt und anschließend charakterisiert. Im Anschluss wurden die Schichten kombiniert und die wichtigsten Parameter für die SHJ-Zelle bestimmt. Die Schichtherstellung über die HWCVD wurde über zwei Beschichtungsabläufe durchgeführt und deren Vor- und Nachteile ermittelt. In dieser Arbeit wurden mit Hilfe der HWCVD SHJ-Zellen hergestellt, welche Zellwirkungsgrade von 18,9 % auf 244 cm² und 19,8 % auf einer kantenisolierten Zellfläche von 207 cm².
Autoren/Hrsg.
Fachgebiete
- Technische Wissenschaften Elektronik | Nachrichtentechnik Elektronik Elektronische Baugruppen, Elektronische Materialien
- Technische Wissenschaften Energietechnik | Elektrotechnik Solarenergie, Photovoltaik
- Technische Wissenschaften Maschinenbau | Werkstoffkunde Technische Mechanik | Werkstoffkunde Materialwissenschaft: Elektronik, Optik