Justianto / Fraunhofer IST, Braunschweig

Heißdraht-CVD-Prozesse für Silizium-Heterostruktursolarzellen


Erscheinungsjahr 2025
ISBN: 978-3-8396-2108-0
Verlag: Fraunhofer Verlag

Buch, Deutsch, Band 3, 101 Seiten, Format (B × H): 148 mm x 210 mm

Reihe: Advances in surface engineering and sustainable production / Fortschritte in Oberflächentechnik und nachhaltiger Produktion

ISBN: 978-3-8396-2108-0
Verlag: Fraunhofer Verlag


Silizium-Heterostruktursolarzellen (SHJ-Zellen) gehören zu den hocheffizienten Solarzellen und erzielen unter den siliziumbasierten Solarzellen bis dato die höchsten Zelleffizienzen auf dem Markt. Bei der Herstellung der SHJ-Zellen hat sich die plasmaunterstützte CVD zur Herstellung der Silizium-Schichten etabliert, welche diese bereits bei Temperaturen um 200 °C abscheidet. Als Alternative wird in dieser Arbeit die Heißdraht-CVD (HWCVD) zur Silizium-Abscheidung untersucht, da hier die Schichten in Abwesenheit von hochenergetischen Teilchen wachsen, weshalb die Bildung von defektarmen Schichten begünstigt wird.

Die Silizium-Schichten wurden mittels HWCVD als Einzelschichten hergestellt und anschließend charakterisiert. Im Anschluss wurden die Schichten kombiniert und die wichtigsten Parameter für die SHJ-Zelle bestimmt. Die Schichtherstellung über die HWCVD wurde über zwei Beschichtungsabläufe durchgeführt und deren Vor- und Nachteile ermittelt. In dieser Arbeit wurden mit Hilfe der HWCVD SHJ-Zellen hergestellt, welche Zellwirkungsgrade von 18,9 % auf 244 cm² und 19,8 % auf einer kantenisolierten Zellfläche von 207 cm².
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