Misra / Hogan / Chorush | Handbook of Chemicals and Gases for the Semiconductor Industry | Buch | 978-0-471-31671-8 | sack.de

Buch, Englisch, 384 Seiten, Format (B × H): 155 mm x 236 mm, Gewicht: 640 g

Misra / Hogan / Chorush

Handbook of Chemicals and Gases for the Semiconductor Industry

Buch, Englisch, 384 Seiten, Format (B × H): 155 mm x 236 mm, Gewicht: 640 g

ISBN: 978-0-471-31671-8
Verlag: Turner Publishing Company


Eine Sammlung der wichtigsten und nützlichsten Daten von Chemikalien und technischen Gasen, die in der Halbleiterindustrie benötigt werden! Physikalische Kenngrößen und Sicherheitsinformationen von über 270 Substanzen wurden hier in alphabetischer Reihenfolge zusammengetragen. Unter anderem finden Sie Hinweise zu chemischen Prozessen und Anwendungen, zur sicheren Handhabung der Chemikalien, zum Verhalten bei Unfällen, zur Abfallentsorgung, zu Reinheitsanforderungen und auch zu Lieferanten. Jeder Eintrag wird durch Literaturhinweise ergänzt. Mit ausführlichen Querverweisen!
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Weitere Infos & Material


Thin Film Deposition Materials.

Wafer Cleaning Chemicals.

Photolithography Materials.

Wet and Dry Etching Materials.

Chemical Mechanical Planarizing Materials.

Carrier Gases.

Uncategorized Materials.

Semiconductor Chemicals Analysis.

Index.


ASHUTOSH MISRA is Director of Applications and New Product Development for Air Liquide Electronics, Inc.
JEREMIAH D. HOGAN is Director of Physical Analysis Laboratories for Texas Instruments, Inc.
RUSSELL A. CHORUSH is an associate at the law firm of Conley, Rose and Tayon, PC


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