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Borst / Gutmann / Gill Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses
Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology2002Verlag: Springer USISBN: 978-1-4020-7193-5Medium: Buch160,49 € (inkl. MwSt.)
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Borst / Gill / Gutmann Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses
Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect TechnologyErscheinungsjahr 2013Verlag: Springer USISBN: 978-1-4615-1165-6Medium: eBookFormat: PDF
Kopierschutz: 1 - PDF Watermark149,79 € (inkl. MwSt.)
sofort verfügbar
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Borst / Gutmann / Gill Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses
Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect TechnologySoftcover Nachdruck of the original 1. Auflage 2002Verlag: Springer USISBN: 978-1-4613-5424-6Medium: Buch160,49 € (inkl. MwSt.)
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